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具有大斯托克斯位移的 ATTO 染料
ATTO-TEC提供兩種新型熒光標(biāo)記，斯托克斯位移高達(dá)165 nm。這些染料特別適用于多重處理領(lǐng)域，因為大的斯托克斯位移可最大限度地減少檢測通道中的信號重疊。
兩種染料都非常親水，并且具有高熒光量子產(chǎn)率的特點(diǎn)。與許多其他熒光標(biāo)記物相比，與生物分子（例如蛋白質(zhì)）偶聯(lián)后，熒光效率僅略有降低。即使具有高度標(biāo)記（DOL）也是如此。
這些染料有 NHS 酯、馬來酰亞胺、疊氮化物等變體，并且?guī)в杏坞x羧基。此外，還提供鏈霉親和素和鬼筆環(huán)肽的綴合物。
光學(xué)特性（在 PBS pH 7.4 中） | |||
絕對值_ | 第436章 | 納米 | |
ε最大 | 3.2×10 4 | 米-1厘米-1 | |
λfl _ | 第545章 | 納米 | |
ηfl _ | 65 | % | |
τfl _ | 4.0 | 納秒 | |
CF 260 = ε 260 /ε最大 | 0.32 | ||
CF 280 = ε 280 /ε最大 | 0.22 | ||
ATTO 430LS是一種新型熒光標(biāo)記物，具有109 nm的超大斯托克斯位移。因此，發(fā)射幾乎完*與吸收光譜分離。ATTO 430LS非常親水，并表現(xiàn)出非常好的水溶性。該染料具有高熒光量子產(chǎn)率。即使在高標(biāo)記水平 (DOL) 下，與生物分子綴合也只會略微降低這種情況。ATTO 430LS是一種陰離子染料。與底物偶聯(lián)后，染料簡單地帶負(fù)電。熒光在 400 - 460 nm 范圍內(nèi)被特別有效地激發(fā)。
光學(xué)特性（在 PBS pH 7.4 中） | |||
絕對值_ | 第495章 | 納米 | |
ε最大 | 4.0×10 4 | 米-1厘米-1 | |
λfl _ | 第658章 | 納米 | |
ηfl _ | 30 | % | |
τfl _ | 2.6 | 納秒 | |
CF 260 = ε 260 /ε最大 | 0.39 | ||
CF 280 = ε 280 /ε最大 | 0.21 | ||
ATTO 490LS是一種新型熒光標(biāo)記物，具有165 nm的超大斯托克斯位移。因此，發(fā)射幾乎完*與吸收光譜分離。這使得該染料非常適合多色實驗，特別是與 ATTO 488 或 ATTO 514 結(jié)合使用。ATTO 490LS非常親水，表現(xiàn)出非常好的水溶性和高熒光量子產(chǎn)率。即使具有高度標(biāo)記（DOL），這種情況也僅通過與生物分子綴合而略有降低。ATTO 490LS
是一種陰離子染料。與底物偶聯(lián)后，染料簡單地帶負(fù)電。熒光的有效激發(fā)發(fā)生在 460 - 530 nm 范圍內(nèi)。
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